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浅析石英坩埚的工艺特点
- 2019-07-22-

  1.石英坩埚可在1450度以下运用,分透明和不透明两种。用电弧法制的半透明石英坩埚是拉制大直径单晶硅,开展大规模集成电路必不可少的基础资料。当今,世界半导体工业发达区域已用此坩埚取代了小的透明石英坩埚。他具有高纯度、耐温性强、标准大精度高、保温性好、节约能源、质量安稳等长处。

  2、不能和HF接触,高温时,极易和苛性碱及碱金属的碳酸盐效果。

  3.石英坩埚适于用K2S2O7,KHSO4作熔剂熔融样品和用Na2S207(先在212度烘干)作熔剂处理样品。

  4.石英质脆,易破,运用时要注意。

  5.除HF外,一般稀无机酸可用作清洗液。国内常用拉制单晶硅用石英坩埚18英寸和20英寸22英寸也有厂家运用22及以上的坩埚。现在国内坩埚出产大厂家出产的坩埚技术都比较老练。其出产运用质料石英砂由美国进口和挪威高纯石英砂两种。也有小厂运用国产料其质料出产的石英坩埚对拉制单晶硅时其安稳性都有必定影响。

  目前石英坩埚出产涂层技术已被大多数厂家运用就是在一般石英砂溶制的坩埚外表涂上一层二氧化钡溶液使其构成细密层,其细密层能阻遏单晶硅高温拉制过程中硅与石英坩埚反应提高成晶率。

  前期的石英坩埚是全部透明的,前期期的石英坩埚是全部的透明的结构,这种透明的结构却简略引起导致不均匀的热传输条件,增加晶棒成长的困难度。

  1、现代拉单晶的石英坩埚一般是选用电弧法出产,半透明状,是拉制大直径单晶硅,开展大规模集成电路必不可少的基础资料。

  2、现代的石英坩埚则存在二种结构,外侧是一层具有高气泡密度的区域,称为气泡复合层,内侧则是一层3~5mm的透明层,称之为气泡空乏层。

  3、气泡复合层的目的是在与均匀的辐射有加热器所供应的辐射热源。

  石英坩埚选用国内先进制埚离心机,用玻璃制子离心手工成型,用石墨电极、低压大电流电弧烧制(温度到达2000多度)

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