一、优点

　　1、普通备有辅助离子源，能够用来清洗石英片，清洗效果好；

　　2、由于装有中和器，也能够用来制备绝缘膜层；

　　3、易于制备熔点高的材料；

　　4、制备合金膜层，能够保证膜层材料比例与靶材相同；

　　5、靶材粒子能量高（比热蒸发高出1个数目级），所制备膜层更致密，与石英片结协力更高。

　　二、缺点

　　1、离子源清算和中和器灯丝改换较频繁；

　　2、普通镀膜速率较慢，每秒几十埃；

　　3、不适合制备较大面积薄膜。

　　三、机器运转时的注意事项

　　1、关注真空度指标；

　　2、保持机器内舱各部位的清洁；

　　3、测试并记载镀好的石英振子主要指标，如：频率、电阻、DLD等；

　　4、溅镀后的石英振子要用3M胶带检查其结实度；

　　5、依据镀出石英振子的散差，调整遮挡板的各部尺寸；

　　6、检查并记载抽真空的时间，如有延长，立即检查形成的原因；

　　7、将不良品挑出：电极错位、划伤、脏污、掉银等。